CMP研磨液是半導體製程材料中，成長最快的材料，1999-2004年複合成長率高達20.3%，估計2004年化學機械研磨液市場規模逾5.5億美元，年成長率達24.3%，超越2003年的15.3%，分析成長因素有三，一是全球景氣復甦及消費性電子產品蓬勃發展，半導體景氣從2003年第四季開始從谷底反彈，半導體製造廠的產能利用率大幅上升，加上12吋晶圓廠陸續開始量產，使CMP研磨液使用量增加，二是隨著每...
若有任何問題，可使用下方檢索互動介面找解答，或是寫信到客服信箱。
星期一~五 9:00-12:30/13:30-18:00