自1961年開始迄今，半導體產業在短短的四十年間建立了人類有始以來最大、也是最快的成就。隨著3C市場的需求及技術的演進，元件的大小必須由微米走向奈米的尺度，以提供速度、耗電量、整合、密度等各方面的改進。而半導體微影技術在IC製造中一直扮演著舉足輕重的角色，隨著IC產品技術需求的提升，微影技術也需不斷地提高解析度以製作更微小的特徵尺寸。...
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