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全球LCD曝光設備產業動向(下)

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出版作者 盧素涵
出版單位 金屬中心
出版日期 2009/12/07
出版類型 產業評析
所屬領域 機械設備
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摘要

因為EGIS裝載了高精度的影像檢出技術,可以瞬間檢查出Pattern偏移以及基板熱變形等問題,並可立即進行補正並同時曝光。不同於利用對準圖形進行對位的既有設備,因為可以同時讀取被瞄畫的Pattern並進行曝光的關係,因此,被認為是最適合用來讀取黑色矩陣(BM)並曝光RGB的方法。該手法也被認為是在TFT上形成CF的Color Filter on Array(COA)的最佳曝光法。因COA在貼合的玻...

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