如圖一所示，左半部為傳統光學微影技術，其光學透鏡與光阻之間的介質為空氣，而右半部的濕浸式微影技術將空氣介質更換為流體。濕浸式技術利用光通過流體介質後，縮短光源波長以提升其解析度，公式為λ’=λ/n (λ’為通過流體介質後的波長；λ為在空氣中的波長；n為流體介質的折射率)。若將目前193奈米波長曝光機台中，在光源與晶圓之間加入水為介質(水的折射率約為1.44)，其波長可縮短為134奈米。TSMC於2...
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