光罩是IC製造中不可或缺的材料，目前較先進的光罩依不同的製程線幅寬度，大致可區分為0.25微米以上、0.18微米、0.13微米及90奈米以下光罩。光罩製造是一個技術與資金密集的產業，目前面臨最大的挑戰是90奈米以下光罩的研發技術門檻與經費大舉增加，光罩的複雜性及技術的不確定也愈來愈高。...
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