半導體晶圓製造製程技術發展概況

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字數 1478
頁數 3
出版作者 陳婉儀
出版單位 工研院IEK電子分項
出版日期 2015/03/25
出版類型 產業評析
所屬領域 半導體
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摘要

在2014年少數國際晶圓製造廠商紛紛邁入1xnm製程世代發展,並積極朝向10nm製程技術研發,以目前發展最先進製程技術的三大廠商英特爾(Intel)、台積電及三星而言,英特爾(Intel)在技術發展上走在最前端,其本身具有成熟的CPU技術,在不同製程節點上皆是發展先驅;台積電為血統純正專業晶圓代工廠商,在先進製程技術上追求滿足客戶需求為目標,所以積極搶攻16nm量產時程及10nm研發進度;而對於記憶體大廠三星而言,為了提升記憶體儲存空間及降低耗電,製程也已推進製14nm,三星必須追求先進製程的精進及產能以保住領先地位。

內文標題/圖標題

一、半導體晶圓製造製程技術發展

二、半導體晶圓製造下世代製程技術發展

三、結論

圖1  IC晶圓製造製程技術發展方向

圖2 邏輯元件與記憶體的製程發展趨勢

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