由於目前半導體廠130奈米製程已導入量產，ArF 193奈米曝光機將在2004年時快速成長，預估在2005年時完全取代248奈米KrF曝光機，193奈米曝光機將逐漸成為微影設備的主流市場，如圖3-6、3-7所示。2003年主流機種248奈米曝光機佔了49%，2004年將下滑至45%。由近期各半導體廠所發佈的訊息得知，2004年半導體廠商資本支出將比去年高出2~3倍，如台積電的20億美元、聯電20....
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