本文所提到的奈米電子重要設備，以化學機械研磨(CMP)、極短紫外光(EUV)微影及原子層沈積(ALD)設備為主，此專利分析是以美國專利商標局(U.S. Patent and Trademark Office；USPTO)之專利資料庫，利用Patent Pilot 1.3專利分析軟體以上述技術相關之關鍵字作為檢索條件，針對名稱(Title)及摘要(Abstract)欄位進行線上專利收集，其資料範圍取...
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