投射式電子束微影技術(EPL)發展趨勢

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出版作者 陳俊儒
出版單位 工研院IEK電子分項
出版日期 2004/02/17
出版類型 產業評析
所屬領域 半導體
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摘要

隨著光學光波長的限制和曝光設備的複雜化,非光學微影技術成為另一個研發方向。EPL是利用電子槍(Electron Gun)所產生的電子束,透過磁場偏導、掃瞄效應,經電腦控制電子束之劑量後,照射在一層薄膜的光阻上,再經化學處理、去除光阻成形,此技術原理與照相底片曝光雷同。在多年來不斷創新改進並自動化後,如今電子束機台已漸為高精密儀器設備。...

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