提高平面顯示器光學利用之材料發展機會

====章節目錄====

第一章　緒論…1-1

　　第一節　研究動機與目的…1-1

　　第二節　研究架構…1-3

　　第三節　研究方法…1-4

　　第四節　研究限制…1-6

第二章　液晶顯示器與光學利用率…2-1

　　第一節　液晶顯示器結構與功能…2-1

　　第二節　光學利用率…2-7

第三章　改善LCD結構以提高光學利用率…3-1

　　第一節　畫素設計提高光學利用率…3-1

　　第二節　由彩色濾光片改善光學利用率…3-8

第四章　改善光學膜以提高光學利用率…4-1

　　第一節　光學膜中之透明塑膠…4-1

　　第二節　偏光板…4-6

　　第三節　亮度增強膜…4-16

　　第四節　抗反射膜/抗眩膜…4-24

　　第五節　相位差板/補償膜…4-36

　　第六節　稜鏡片…4-43

　　第七節　擴散膜…4-47

　　第八節　反射板…4-50

　　第九節　小結…4-53

第五章　材料發展機會探討…5-1

　　第一節　分析方法與考量因素…5-1

　　第二節　建議發展材料/技術…5-3

第六章　結論與建議…6-1

　　第一節　結論…6-1

　　第二節　建議…6-4

====表目錄====

表2-1 LCD光學利用率的理論與量測…2-9

表3-1 RGBW與RGB Stripe特性比較…3-4

表3-2 Hydis 2.0” qVGA耗電比較…3-4

表3-3 各種金屬之電阻值…3-4

表3-4 銅製程與一般金屬製程比較…3-5

表4-1 光學膜用透明塑膠基材各項性質比較…4-3

表4-2 相位差板膜/補償膜在穿透式面板之應用…4-41

表5-1 各項材料/技術篩選結果…5-3

表6-1 提高光學利用率之技術與材料…6-3

====圖目錄====

圖1-1 研究架構…1-3

圖2-1 TFT-LCD結構…2-1

圖2-2 彩色濾光片之結構…2-2

圖2-3 偏光板之光透過圖…2-3

圖2-4 偏光板的基本構造…2-4

圖2-5 背光模組之關鍵材料結構…2-6

圖3-1 Cs on Gate…3-2

圖3-2 Gate on Scan Line…3-2

圖3-3 RGB與RGBW的子畫素分佈…3-3

圖3-4 銅製程提高開口率示意圖…3-5

圖3-5 以Over Coating增加開口率…3-7

圖3-6 Color Filter on Array示意…3-8

圖3-7 傳統TFT與COA之解析度與開口率…3-9

圖3-8 含Photo Spacer之彩色濾光片…3-10

圖3-9 Light Matching示意…3-12

圖4-1 二色性吸收型偏光效應…4-6

圖4-2 H-Sheet偏光板基本結構…4-7

圖4-3 H-Sheet偏光板製作程序…4-8

圖4-4 H-Sheet偏光板穿透率與波長關係…4-9

圖4-5 偏光板穿透率及偏光度關係…4-10

圖4-6 TCF偏光板之製程…4-12

圖4-7 TCF偏光板穿透率…4-14

圖4-8 3M生產之DBEFTM光回收機制…4-17

圖4-9 3M生產之DBEFTM效能…4-17

圖4-10 DBEFTM生產流程…4-19

圖4-11 膽固醇液晶亮度增強膜原理…4-21

圖4-12 光散射式偏光板原理…4-22

圖4-13 抗反射處理影像比較…4-25

圖4-14 多層破壞性干涉原理…4-27

圖4-15 商業化抗反射處理…4-29

圖4-16 抗眩原理：粗糙表面造成反射光漫射或亂射…4-34

圖4-17 影像品質與表面粗糙度關係…4-35

圖4-18 液晶分子示意與相位差不對稱性…4-37

圖4-19 相位差板光軸示意…4-38

圖4-20 相位差板不同視角下相位差值分佈…4-39

圖4-21 Fuji WVTM複合結構與TN-TFT液晶顯示器補償原理…4-40

圖4-22 3M BEFTM微結構…4-44

圖4-23 3M BEFTM製程…4-44

圖4-24 3M BEFTM效能…4-44

圖4-25 TMDTM Elliptical Diffuser之微結構與集光性…4-48

圖4-26 正交重疊Moire透鏡擴散效果與一般擴散效果比較…4-49

圖4-27 反射板之反射原理…4-51

圖5-1 材料篩選程序與分類…5-2

圖5-2 材料篩選結果…5-4